国际口腔医学杂志 ›› 2011, Vol. 38 ›› Issue (3): 261-264.doi: 10.3969/j.issn.1673-5749.2011.03.004
王密 尹仕海 唐寅 刘佳
WANG Mi, YIN Shi -hai, TANG Yin, LIU Jia.
摘要:
目的探讨钴铬合金嵌体修复髓室底穿孔的操作步骤及修复效果。方法收集新鲜拔除的人恒磨牙42 颗:其中38 颗用8 号球钻在髓底中央制备直径2.1 mm 的穿孔洞型,随机均分为A、B 两个实验组;另外4 颗为C 组,只开髓不制备髓底穿孔,作阴性对照。A、B 两组分别用钴铬合金嵌体和间接树脂嵌体修复髓底穿孔,并使用树脂加强型玻璃离子进行粘接。从2 个实验组中各随机选4 个用扫描电子显微镜观察粘接界面,其余15 个样本用葡萄糖氧化酶-过氧化物酶法检测微渗漏。结果A 组微渗漏值在任意时间点均高于B 组,但差异无统计学意义(P>0.05),A、B 组均对根分叉的外形进行了良好的修复,但扫描电镜下,钴铬合金嵌体的界面宽度小于树脂嵌体。结论在形态学和封闭性方面,钴铬合金嵌体修复磨牙髓室底穿孔效果良好。
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